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      靜電放電抗擾度測(cè)試簡(jiǎn)介
      點(diǎn)擊次數(shù):888 更新時(shí)間:2023-08-15
         接觸放電(Contact discharge) === 對(duì)正常使用過程中人手可觸摸的金屬表面進(jìn)行放電。先把槍頭垂直接觸金屬表面,再實(shí)施放電,對(duì)未特殊說明之表面金屬絕緣烤漆部分,應(yīng)先用尖頭戳穿烤漆。

      空氣放電(Air discharge) === 對(duì)非金屬表面,縫隙進(jìn)行放電。先觸發(fā)放電開關(guān),再快速靠近并觸及待測(cè)部位后移開重新觸發(fā)。

       

      測(cè)試等級(jí)

      電壓等級(jí)

      接觸放電

      空氣放電

      1

      +/-2

      +/-2

      2

      +/-4(CE標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試等級(jí))

      +/-4

      3

      +/-6

      +/-8(CE標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試等級(jí))

      4

      +/-8

      +/-15

      實(shí)驗(yàn)室試驗(yàn)的配置

          1、接地參考平面,最小厚度0.25mm(銅或鋁),其他金屬材料至少0.65mm最小尺寸1 m*m,實(shí)際尺寸取決于受試設(shè)備大小,每邊至少伸出受試設(shè)備或耦合板0.5m,并與保護(hù)接地相連。

          2、受試設(shè)備與實(shí)驗(yàn)室墻壁和其他金屬性結(jié)構(gòu)之間最小距離 1m。

          3、不容許受試設(shè)備有其他附加的接地連接線。

          4、耦合板應(yīng)采用和接地參考平面相同的金屬和厚度,且每端經(jīng)過一470 K ohm電阻與接地參考平面連接。電阻能耐受放電電壓且具有良好絕緣和防止電荷積累,避免對(duì)接地參考平面短路。

          5、臺(tái)式設(shè)備

          EUT放在位于接地參考平面之上的0.8m高的木桌上的水平耦合板(HCP)上,并用一個(gè)厚度為0.5mm的絕緣襯墊將EUT和電纜與耦合板隔離。

          6、落地式設(shè)備 

          EUT和電纜用厚度約0.1m的絕緣支架與接地參考平面隔開。

      試驗(yàn)環(huán)境條件

      氣候條件 —— 空氣放電試驗(yàn)時(shí),氣候條件應(yīng)在下述范圍內(nèi):

          1、環(huán)境溫度: 15攝氏度~ 35攝氏度

          2、相對(duì)濕度: 30%~60%

          3、大氣壓強(qiáng): 86 kPa ~106 kPa

      電磁環(huán)境 === 實(shí)驗(yàn)室的電磁環(huán)境不應(yīng)影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

           對(duì)受試設(shè)備直接施加的放電

          1、施加靜電放電于EUT在正常使用時(shí),人能接觸得到的點(diǎn)及表面。

          2、可使用20次/sec功能,來預(yù)先選擇測(cè)點(diǎn)。

          3、在預(yù)選點(diǎn)上,至少施加10次單次放電,間隔約1秒。

          4、接觸放電前,須先將放電頭接觸EUT,有烤漆處須用尖頭戳穿烤漆層,再放電測(cè)試。

          5、空氣放電時(shí),使用圓形放電頭,觸發(fā)開關(guān)后,以盡快速度接觸EUT。

          6、ESD放電時(shí)槍頭應(yīng)與待測(cè)體表面保持垂直。

      對(duì)受試設(shè)備間接施加的放電

          1、對(duì)放置于或安裝在EUT附近的物體的放電應(yīng)用靜電放電發(fā)生器對(duì)耦合板接觸放電的方式進(jìn)行模擬。

          2、在EUT每側(cè)的一些點(diǎn)上,至少對(duì)水平耦合板施加10次單次放電。

          3、對(duì)VCP的一個(gè)垂直邊的中心至少施加10次單次放電。

          4、通過調(diào)整耦合板位置,使EUT四面的不同位置都受到放電測(cè)試。

          5、耦合板與EUT的距離為0.1m。

       

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